STP-XA2703C 渦輪泵為高真空到 2300 sccm 制程流的制程范圍內(nèi)提供高性能,并提高所有氣體的吞葉量。
此泵基于新的平臺(tái)設(shè)計(jì),提供各種功能以改善熱管理,從而增強(qiáng)在嚴(yán)苛制程中的性能,提高最大
制程流能力,并減少腐蝕和沉積的影影響。其出色的性能既適用于溫和的應(yīng)用環(huán)境,也適用于嚴(yán)苛的環(huán)境,例如半導(dǎo)體刻蝕、注入、光刻和LCD 制程。

應(yīng)用
金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源,射束線泵送端點(diǎn)站
MBE
擴(kuò)散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長(zhǎng)
晶片檢查
負(fù)載鎖真空腔
科學(xué)儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理:射束線、加速器
放射線應(yīng)用:融合系統(tǒng)、回旋


特性和優(yōu)點(diǎn)
先進(jìn)的轉(zhuǎn)子技術(shù)
更高的氣體吞吐量
最大的制程靈活性
無(wú)油
低振動(dòng)
高度可靠
免維護(hù)
可用于嚴(yán)苛制程
使用壽命延長(zhǎng)
先進(jìn)的控制器設(shè)計(jì)
自動(dòng)調(diào)整
自行診斷功能
直流電機(jī)驅(qū)動(dòng)
無(wú)電池運(yùn)行
緊湊型設(shè)計(jì)
占地面積小
半機(jī)架控制器
5 軸磁懸浮系統(tǒng)
無(wú)污染
少維護(hù)
任意方向操作

技術(shù)數(shù)據(jù)


性能


尺寸
