Edwards STP603 是新型的渦輪分子泵,可用于最先進的半導(dǎo)體應(yīng)用。Edwards 的轉(zhuǎn)子技術(shù)可實現(xiàn)一流的性能,最大的制程靈活性。這種泵已經(jīng)由半導(dǎo)體和磁介質(zhì)行業(yè)的大型設(shè)備制造商投入使用,并得到了認可。

應(yīng)用
金屬(鋁)、鎢和電介質(zhì)(氧化物)以及多晶硅等離子刻蝕(氯化物、氟化物和溴化物)
電子回旋共振 (ECR) 刻蝕
薄膜沉積 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD
濺射
離子注入源,射束線泵送端點站
MBE
擴散
光致抗蝕劑脫模
晶體/晶膜生長
晶片檢查
負載鎖真空腔
科學(xué)儀器:表面分析、質(zhì)譜分析、電子顯微鏡
高能物理:射束線、加速器
放射線應(yīng)用:融合系統(tǒng)、回旋


特性和優(yōu)點
先進的轉(zhuǎn)子技術(shù)
最大的制程靈活性
無油
低振動
高度可靠
免維護
先進的控制器設(shè)計
自動調(diào)整
自行診斷功能
直流電機驅(qū)動
無電池運行
緊湊型設(shè)計
占地面積小
半機架控制器

技術(shù)數(shù)據(jù)


性能


尺寸
